Базар ихтыяҗының артуы белән, тагын да күбрәк төрләү максатлары яңартылып тора.Кайберләре таныш, кайберләре клиентлар өчен таныш түгел.Хәзер, без сезнең белән магнитрон чәчү максатларының нинди төрләре белән уртаклашасыбыз килә.
Спуттеринг максаты түбәндәге төрләргә ия: металл спуттеринг каплау максаты, эретелгән эретү каплау максаты, керамик бөтерелү каплау максаты, борид керамик бөтерелү максаты, карбид керамик бөтерелү максаты, фторид керамик бөтерелү максаты, нитрид керамик бөтерелү максаты, оксид керамик мишень, селенид керамик мишень. , силицид керамик бөтерелү максаты, сульфид керамик бөтерелү максаты, теллурид керамик бөтерелү максаты, башка керамик максатлар, Хром допедлы кремний оксиды керамик максаты (CR SiO), индий фосфид максаты (INP), кургашлы арсенид максаты (pbas), индий арсенид максаты (InAs) ).
Магнитрон спуттеринг гадәттә ике төргә бүленә: DC спуттеринг һәм RF спуттеринг.Тоткыч җайланмалар принцибы гади, һәм металлны бәргәндә аның тизлеге дә тиз.РФ спуттеры киң кулланыла.Conductткәргеч мәгълүматны таркатудан тыш, ул үткәргеч булмаган мәгълүматны да таркатырга мөмкин.Шул ук вакытта, бөтерелү максаты шулай ук оксидлар, нитридлар һәм карбидлар кебек катлаулы мәгълүматлар әзерләү өчен реактив спуттеринг үткәрә.Әгәр дә RF ешлыгы артса, ул микродулкынлы плазма таралышына әйләнәчәк.Хәзерге вакытта электрон циклотрон резонансы (ECR) микродулкынлы плазмалы бөтерелү гадәттә кулланыла.
Пост вакыты: 18-2022 май