Нечкә фильмнар тикшерүчеләрнең игътибарын җәлеп итә.Бу мәкалә аларның кулланылышы, үзгәрүчән чүпләү ысуллары һәм киләчәктә куллану буенча хәзерге һәм тирәнрәк тикшеренүләрне тәкъдим итә.
"Фильм" - ике үлчәмле (2D) материал өчен чагыштырма термин, аның субстратына караганда күпкә нечкә, ул субстратны капларга яисә ике өслек арасында сандугачлы булырга тиеш.Хәзерге промышленность кушымталарында бу нечкә фильмнарның калынлыгы гадәттә суб-нанометрдан (нм) атом үлчәмнәреннән (ягъни, <1 нм) берничә микрометрга кадәр (μm) үзгәрә.Бер катлы графенның калынлыгы бер углерод атомына ия (ягъни ~ 0.335 нм).
Фильмнар тарихи чорда декоратив һәм сурәтләү максатларында кулланылган.Бүгенге көндә зиннәтле әйберләр һәм бизәнү әйберләре бронза, көмеш, алтын һәм платина кебек кыйммәтле металлларның нечкә фильмнары белән капланган.
Фильмнарның иң еш кулланылуы - өслекләрне абразиядән, тәэсирдән, тырнаудан, эрозиядән һәм абразиядән саклау.Алмазга охшаган углерод (DLC) һәм MoSi2 катламнары автомобиль двигательләрен тузудан һәм механик хәрәкәт өлешләре арасындагы сүрелү аркасында килеп чыккан югары температура коррозиясеннән саклау өчен кулланыла.
Нечкә пленкалар шулай ук реактив өслекләрне әйләнә-тирә мохиттән саклау өчен кулланыла, дым аркасында оксидлашу яки гидратлашу.Conductткәргеч фильмнарны саклау ярымүткәргеч җайланмалар, диэлектрик пленка сепараторлары, нечкә кино электродлары һәм электромагнит интерфейсы (EMI) өлкәсендә зур игътибар алды.Аерым алганда, металл оксид кыры эффект транзисторлары (MOSFET) SiO2 кебек химик һәм термик тотрыклы диэлектрик фильмнарны үз эченә ала, һәм тулы металл оксиды ярымүткәргечләр (CMOS) үткәргеч бакыр пленкаларны үз эченә ала.
Нечкә пленка электродлары энергия тыгызлыгының суперкапсаторлар күләменә берничә тапкыр арта.Моннан тыш, металл нечкә пленкалар һәм хәзерге вакытта MXenes (металл карбидлар, нитридлар яки карбонитридлар) перовскит керамик нечкә пленкалар электрон компонентларны электромагнит комачаулавыннан саклау өчен киң кулланыла.
ПВДда максатлы материал парланалар һәм субстрат булган вакуум камерасына күчерелә.Пар субстрат өслегенә конденсация аркасында гына сала башлый.Вакуум пычракларның кушылуы һәм пар молекулалары белән калдык газ молекулалары арасында бәрелешләрдән саклый.
Парга кертелгән турбулентлык, температура градиенты, пар агымы тизлеге, һәм максатчан материалның яшерен җылылыгы кино бердәмлеген һәм эшкәртү вакытын билгеләүдә мөһим роль уйный.Парлану ысулларына резистив җылыту, электрон нур җылыту һәм күптән түгел молекуляр нур эпитаксы керә.
Гадәттәге ПВДның җитешсезлекләре - аның бик эретү ноктасы материалларын парлый алмаулары һәм парлану-конденсация процессы аркасында урнаштырылган материалда булган структур үзгәрешләр.Магнитрон бөтерелү - бу проблемаларны чишә торган киләсе буын физик чүпләү техникасы.Магнитрон чәчкәндә, максатлы молекулалар бомбардировщик белән энергияле позитив ионнар белән магнитон барлыкка китергән магнит кыры аша чыгарыла.
Нечкә фильмнар заманча электрон, оптик, механик, фотоник, җылылык һәм магнит җайланмаларында, хәтта күпкырлылыгы, компактлыгы һәм функциональ үзенчәлекләре аркасында декор әйберләрендә аерым урын алып торалар.PVD һәм CVD - иң нанометрдан берничә микрометрга кадәр калынлыктагы нечкә фильмнар җитештерү өчен иң еш кулланыла торган парны туплау ысуллары.
Сакланган фильмның соңгы морфологиясе аның эшенә һәм эффективлыгына тәэсир итә.Ләкин, нечкә пленка парга әйләнү техникасы алга таба тикшерүне таләп итә, булган процесс керемнәренә, сайланган максат материалларына һәм субстрат үзлекләренә нигезләнеп нечкә кино үзлекләрен төгәл фаразлау.
Глобаль ярымүткәргеч базары дулкынландыргыч чорга керде.Чип технологиясенә сорау тармак үсешенә этәргеч бирде һәм тоткарлады, һәм хәзерге чип кытлыгы берникадәр вакыт дәвам итәр дип көтелә.Хәзерге тенденцияләр, мөгаен, тармакның киләчәген формалаштырырлар
Графенга нигезләнгән батареялар һәм каты торышлы батарейкалар арасында төп аерма - электродларның составы.Катодлар еш үзгәртелсә дә, углерод аллотроплары анод ясау өчен дә кулланылырга мөмкин.
Соңгы елларда әйберләр интернеты барлык өлкәләрдә дә диярлек тормышка ашырылды, ләкин ул электр машиналары тармагында аеруча мөһим.
Пост вакыты: 23-2023 апрель