Күпләп сату AlTi эретмәсе Спуттеринг Максаты Highгары чисталык җитештерүче һәм тәэмин итүче |Бай

Алюминий Титан

AlTi эретмәсе Спуттеринг Максаты Highгары чисталык үзенчәлекле рәсем

Кыска тасвирлау:

Төркем	Эретелгән спуттеринг максаты
Химик формула	AlTi
Композиция	Алюминий Титан
Чисталык	99,9% ， 99.95% 9. 99,99%
Форма	Тәлинкәләр umn Колоннаның максатлары ， дуга катодлары ， Заказлы
Производство процессы	Вакуум эретү ， PM
Размер	L≤2000mm ， W≤200mm

Безгә электрон почта җибәрегез

Продукциянең детальләре

Продукция тэглары

Чүпрәк каплау өчен максатчан сыйфат таләбе традицион материаллар индустриясенә караганда югарырак.Максатның бердәм микросруктурасы турыдан-туры шаккатуга китерә.Бездә сыйфатлы идарә итү системасы бар, без югары чисталык чималын сайлыйбыз һәм бертөрлелекне тәэмин итү өчен аларны яхшылап кушабыз.Алюминий Титан эретмәсе эретү максаты вакуум кайнар басу ысулы ярдәмендә җитештерелә.

Безнең Алюминий Титанның таралу максатлары искиткеч оксидлашуга чыдам нитрид каплау, Титан алюминий нитриды (TiAlN) белән тәэмин итә ала.TiAlN - коралларны кисү, сикерү өлешләре һәм трибо-каплау өчен фильм буларак хәзерге төп агым.Аның югары катылыгы, каты булуы, чыдам чыдамлыгы һәм оксидлашу температурасы бар.

Безнең типик AlTi максатлары һәм аларның үзлекләре

	Ti-75% At	Ti-70% At	Ti-67% At	Ti-60% At	Ti-50% At	Ti-30% At	Ti-20% At	Ti-14% At
Чисталык (%)	99.7	99.7	99.7	99.7	99.8 /99.9	99.9	99.9	99.9
Тыгызлыгы（г / см³）	3.1	3.2	3.3	3.4	3.63 / 3.85	3.97	4.25	4.3
Gяңгыр Размер(µm)	100	100	100	100	100/-	-	-	-
Процесс	HIP	HIP	HIP	HIP	HIP/ VAR	VAR	VAR	VAR

Бай махсус материаллар спуттеринг максаты җитештерүдә махсуслашалар һәм клиентлар спецификациясе буенча алюминий титан спуттер материаллары җитештерә алалар.Без төрле геометрик формалар белән тәэмин итә алабыз: трубалар, дуга катодлары, планар яки махсус ясалган, һәм алюминийның киң пропорция диапазоны.Безнең продуктларда искиткеч механик үзлекләр, бертөрле микросруктура, сегрегациясез, күзәнәкләр яки ярыклар булмаган чистартылган өслек бар.Күбрәк мәгълүмат алу өчен зинһар, безнең белән элемтәгә керегез.

Алдагы: AlNi эретмәсе спуттеринг максаты югары чисталык нечкә фильм PVD каплау махсус эшләнгән

Алга: AlTa Sputtering Target югары чисталык нечкә фильм PVD каплау махсус эшләнгән